高純試劑是進行化學研究、成分分析的相對標準物質，是科技進步的重要條件，廣泛用于物質的合成、分離、定性和定量分析，可以說是化學工作者的眼睛，在工廠、學校、醫(yī)院和研究所的日常工作中，都離不開化學試劑。

　　高純試劑通常應用于專業(yè)領域，例如針對色譜使用的色譜純試劑、針對光譜使用的光譜純試劑。此外，電路、液晶等領域都有各自行業(yè)標準的高純試劑。
電子微加工技術用超凈高純試劑的品種已超過30種，目前應用廣泛的有10多種。依照其用途，可以劃分為光刻膠配套試劑、濕法蝕刻劑和濕法工藝試劑；依照其性質則可以分為：無機酸類、無機堿類、有機溶劑類及其他類型超凈高純試劑，如表12-4所示。資料顯示，超凈高純試劑在半導體工業(yè)中的消耗比例大致為：硫酸約占27%～33%，鹽酸約占3%～8%，其他酸約占10%～20%，氨水約占8%，有機溶劑約占10%～15%，雙氧水約占8%～22%，其他蝕刻劑約占12%～20%。
 

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